脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng)用

本文綜述了國(guó)內(nèi)外脈沖工藝在電弧離子鍍和磁控濺射中的應(yīng)用.脈沖工藝為電弧離子鍍凈化大顆粒、增強(qiáng)膜基結(jié)合力、改善組織形貌、降低沉積溫度等起到了重要作用.電弧或?yàn)R射離子鍍高的離化率為脈沖工藝提供了最好的應(yīng)用條件.最后,對(duì)脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng)用前景進(jìn)行了展望.

作 者：   作者單位：   刊 名： 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2004 24(z1)  分類號(hào)： O484.1  關(guān)鍵詞： 電弧離子鍍   脈沖工藝   低溫沉積  

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