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Cr/C復(fù)合鍍層的制備及其力學(xué)性能研究

時間:2023-04-26 22:09:53 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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Cr/C復(fù)合鍍層的制備及其力學(xué)性能研究

采用磁控濺射技術(shù),以濺射石墨靶為C元素主要來源的方法制備了不同碳含量的Cr/C復(fù)合鍍層.研究了碳含量對鍍層相結(jié)構(gòu)及元素存在狀態(tài)的影響,并考察了碳含量變化后鍍層硬度,韌性,結(jié)合強(qiáng)度等力學(xué)參量的變化.結(jié)果表明:該方法制備的Cr/C鍍層中碳化物相主要是Cr3C2.隨著碳含量的增加,鍍層由晶態(tài)向非晶態(tài)結(jié)構(gòu)過渡;鍍層中的碳化物相也相應(yīng)減少;鍍層的硬度則隨之而上升,韌性則下降.碳含量為75.08%的鍍層結(jié)合強(qiáng)度最差.碳含量為42.37%,51.93%表現(xiàn)出較好的綜合力學(xué)性能.

Cr/C復(fù)合鍍層的制備及其力學(xué)性能研究

作 者: 蘇陽 蔣百靈 白力靜 龍艷妮 王偉 SU Yang JIANG Bai-ling BAI Li-jing LONG Yan-ni WANG Wei   作者單位: 西安理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,陜西西安,710048  刊 名: 西安理工大學(xué)學(xué)報  ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF XI'AN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY  年,卷(期): 2008 24(3)  分類號: O484.5 TH117.3  關(guān)鍵詞: 磁控濺射   Cr/C鍍層   X射線衍射   X射線光電子能譜   力學(xué)性能  

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