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全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究
為了控制全息光柵光刻膠掩模槽形,運(yùn)用曝光模型和顯影模型模擬了掩模的槽形形成過程和變化規(guī)律.實(shí)驗(yàn)對比了不同曝光量,不同顯影濃度,不同空頻條件下的掩模槽形,特別是占寬比(光柵齒寬度與光柵周期的比)的情況.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,實(shí)際槽形與模擬槽形很接近.模擬和實(shí)驗(yàn)均發(fā)現(xiàn),在大曝光量、高濃度顯影、高空頻的光柵條件下所得槽形占寬比較小,槽深主要由原始膠厚決定.
作 者: 陳剛 吳建宏 劉全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan 作者單位: 陳剛,CHEN Gang(南京信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院,微電子工程系,南京,210046)吳建宏,劉全,WU Jiang-hong,LIU Quan(蘇州大學(xué),信息光學(xué)工程研究所,江蘇,蘇州,215006)
刊 名: 光學(xué)技術(shù) ISTIC PKU 英文刊名: OPTICAL TECHNIQUE 年,卷(期): 2008 34(1) 分類號: O436.1 關(guān)鍵詞: 衍射光柵 全息光柵掩模 槽形模擬 占寬比控制【全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究】相關(guān)文章:
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