襯底溫度對(duì)沉積的NiTi薄膜晶化行為的影響

將采用直流磁控濺射方法制備的NiTi薄膜沉積在熱的襯底上,應(yīng)用X射線散射和小角X射線散射技術(shù)研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.結(jié)果表明:襯底加熱可降低薄膜的晶化溫度,襯底溫度在350℃以上,濺射的NiTi薄膜已部分晶化;襯底溫度在350、370℃和420℃濺射的NiTi薄膜,對(duì)應(yīng)的晶化粒子的半徑分別是2.40、2.59、2.81 nm;薄膜中的晶化粒子以形核長(zhǎng)大的方式進(jìn)行,結(jié)晶粒子與基底之間有清晰的界面.

作 者： 李永華 紀(jì)紅 孟繁玲 邱利霞 鄭偉濤 王煜明   作者單位： 李永華,孟繁玲,邱利霞,鄭偉濤,王煜明(吉林大學(xué),麥克德爾米德實(shí)驗(yàn)室材料系,吉林,長(zhǎng)春,130023)

紀(jì)紅(吉林大學(xué)物理學(xué)院,吉林,長(zhǎng)春,130023) 

刊 名： 材料科學(xué)與工藝  ISTIC EI PKU 英文刊名： MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 11(3)  分類號(hào)： O484.4  關(guān)鍵詞： NiTi薄膜   晶化粒子   小角X射線散射  

【襯底溫度對(duì)沉積的NiTi薄膜晶化行為的影響】相關(guān)文章：

沉積液配比和沉積時(shí)間對(duì)TiO2薄膜光催化凈化H2S的影響04-26

基片及基片溫度對(duì)Fe4N薄膜的形成及其特性的影響04-27

硅襯底上Zn1-xMgxO薄膜的結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)04-26

無(wú)機(jī)鹽對(duì)4A沸石晶化過(guò)程的影響04-27

表面效應(yīng)影響的彈性條帶狀薄膜非線性尺寸相關(guān)屈曲行為04-26

脈沖激光沉積Al/Ag摻雜功能梯度薄膜04-27

Ag摻雜對(duì)ZnO薄膜的光電性能影響04-26

自持金剛石厚膜上沉積生長(zhǎng)ZnO薄膜及發(fā)光特性04-26

TiO2加入量對(duì)高爐渣微晶玻璃析晶的影響04-25

中草藥對(duì)烏骨雞黑色素沉積的影響04-26