六氰合鐵酸銅鈷薄膜修飾鉑電極的電化學(xué)、XRD及XPS研究

采用循環(huán)伏安法在鉑電極上電聚合了六氰合鐵酸銅鈷薄膜,并用電化學(xué)、XRD和XPS對該薄膜進(jìn)行了表征.研究表明此薄膜屬于取代型的多核六氰合鐵酸鹽,由Cu2+,Co2+和Fe2+共同占據(jù)晶格格點.通過改變Cu2+,Co2+和Fe3+在沉積液中的比例可以改變聚合膜的性質(zhì).隨沉積液中Cu2+含量的增加,聚合膜中銅的含量相應(yīng)增加而晶格常數(shù)則逐漸減小,但保持著面心立方的晶格對稱性.當(dāng)沉積液中Cu2+:Co2+:Fe3+=1:1:2時,得到的聚合膜具有比較典型的性質(zhì),該薄膜修飾的鉑電極在pH4～10之間均能保持著穩(wěn)定的電化學(xué)響應(yīng).其對一價陽離子的選擇性順序為K+＞Li+＞Na+＞NH4+,與單組分的六氰合鐵酸銅和六氰合鐵酸鈷都存在著較大的差別.XPS實驗表明氧化態(tài)薄膜中鐵元素以Fe(Ⅲ)存在,并且在X射線的照射下很快轉(zhuǎn)化為Fe(Ⅱ).

作 者： 崔興品 汪夏燕 張雷 林祥欽   作者單位： 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)化學(xué)系,合肥,230026  刊 名： 化學(xué)學(xué)報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA CHIMICA SINICA  年，卷(期)： 2002 60(4)  分類號： O6  關(guān)鍵詞： 混合金屬六氰合鐵酸鹽薄膜   化學(xué)修飾電極   XRD   XPS  

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