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制備溫度對TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究
利用電子束熱蒸發(fā)鍍膜的方式,以高純度的ZnO和TiO2顆粒為原料,以Si為基底在有氧的氣氛中制備ZnO/TiO2復合薄膜.研究制備溫度對ZnO/TiO2薄膜的結構以及發(fā)光性能的影響.通過拉曼(Raman)譜和X射線衍射(XRD)譜分析了ZnO/TiO2薄膜的結構,表明所制備的ZnO薄膜為非晶態(tài).用光致發(fā)光 (PL) 譜表征了它的發(fā)光特性,數(shù)據表明在250 ℃時制備的非晶態(tài)ZnO薄膜在波長389 nm處具有極強的紫外光發(fā)射,在波長431 nm處發(fā)出很強的紫光,在波長519 nm處發(fā)出較強的黃綠光.
作 者: 沈華 史林興 王青 何勇 朱日宏 SHEN Hua SHI Lin-xing WANG Qing HE Yong ZHU Ri-hong 作者單位: 沈華,王青,何勇,朱日宏,SHEN Hua,WANG Qing,HE Yong,ZHU Ri-hong(南京理工大學,電子工程與光電技術學院,江蘇,南京,210094)史林興,SHI Lin-xing(南京理工大學,理學院,江蘇,南京,210094)
刊 名: 應用光學 ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF APPLIED OPTICS 年,卷(期): 2007 28(4) 分類號: O462.3 O484.4-34 關鍵詞: ZnO TiO2 電子束熱蒸發(fā) 紫外光發(fā)射 非晶態(tài)薄膜【制備溫度對TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究】相關文章:
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