C/C復合材料基TaC涂層低功率激光燒蝕特征

為研究TaC涂層的高溫燒蝕特征和機理, 用低功率激光儀對TaC涂層進行了不同時間的燒蝕試驗, 并用XRD, SEM等觀測了該涂層在空氣中的氧化與燒蝕過程. 結(jié)果表明: 在大氣環(huán)境下激光燒蝕的開始階段是TaC涂層的分解與游離碳向表面擴散, 隨即氧化生成含碳、氧、鉭的熔體, 隨著時間的延長熔體氧化為低價的鉭氧化物, 最后生成Ta2O5; 熔體在冷卻過程中析出Ta2O5針狀晶體. 在熔體與TaC之間存在1～2μm由細小的晶體和孔隙組成的擴散過渡層, 過渡層由碳、氧、鉭組成.

作 者： 李國棟 熊翔 LI Guo-dong XIONG Xiang   作者單位： 中南大學,粉末冶金國家重點實驗室,長沙,410083  刊 名： 粉末冶金材料科學與工程  EI 英文刊名： MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING OF POWDER METALLURGY  年，卷(期)： 2005 10(3)  分類號： V257  關鍵詞： TaC   涂層   激光燒蝕   氧化   燒蝕機理  

【C/C復合材料基TaC涂層低功率激光燒蝕特征】相關文章：

Mo-Si涂層C/SiC復合材料的氧化性能04-27

C/C復合材料比熱容和熱擴散率的研究04-26

火箭耐燒蝕納米復合材料的工藝、組織及性能04-26

C/C-SiC復合材料兩種制備工藝及材料性能04-26

低C/N對MUCT工藝性能的影響04-26

對激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環(huán)境氣壓關系的理論解析04-26

C/C++筆試題目大全03-13

c語言心得04-24

物流術(shù)語 C05-04

學科術(shù)語 C05-04